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ALD原子层沉积技术的优势主要在以下几点

ALD原子层沉积技术的优势主要在以下几点
原子层沉积技术的优势主要在以下几点:1.原子层沉积是逐层沉积,具有完好的包覆性及自限性;2.前驱体源蒸汽压较高,能够与暴露表面各个地方充分接触,尤其在对高宽比(或高宽深比,达1:2000以上)的内表面薄膜沉积具有无可比拟的优势;3.原子层沉积技术工艺配方稳定,厚度取决于其循环脉冲次数,控制简单,对沉积气压及气体流速等均无严格要求;4. 沉积温度低,适用于多种材料生长;5. 适合于大批量工业生产;6. 成本低。